勻膠機是在高速旋轉的基片上,滴注各類(lèi)膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備,膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。該設備主要用于晶片涂光刻膠,有自動(dòng)、手動(dòng)和半自動(dòng)三種工作方式。
勻膠機的工作過(guò)程:
送片盒中的晶片,自動(dòng)送到承片臺上,用真空吸附,在主軸電機的帶動(dòng)下旋轉,轉速100-9900轉/分(±10轉/分),起動(dòng)加速度可調。
每道程序的持續時(shí)間,轉速、加速度、烘烤溫度、烘烤時(shí)間、預烘時(shí)間等工藝參數均可通過(guò)編程控制。
勻膠機有一個(gè)或多個(gè)滴膠系統,可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉滴膠。隨著(zhù)晶片尺寸的增大,出現了多點(diǎn)滴膠或膠口移動(dòng)式滴膠。
膠膜厚度一般在500-1000nm,同一晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種,并有流量計進(jìn)行恒量控制。對涂過(guò)膠的晶片有上下刮邊功能,去掉晶片正反面多余的光刻膠。
烘烤工位,有隧道式遠紅外加熱,微波快速加熱以及電阻加熱的熱板爐等。涂膠后的晶片要按一定的升溫速率進(jìn)行烘干。烘烤過(guò)程在密封的爐子中進(jìn)行,通過(guò)抽真空排除揮發(fā)出來(lái)的有害物質(zhì)。前烘結束后,將晶片送入收片盒內。
主軸轉速的穩定性和重復性是決定膠膜厚度均勻性和一致性的關(guān)鍵,起動(dòng)加速度的大小是決定是否能將不同粘稠度的光刻膠甩開(kāi)并使膠均勻的決定因素。